您好,歡迎來到秋山科技(東莞)有限公司!
我們的實驗室主要生產(chǎn)和銷售用于光學(xué)薄膜形成的真空蒸發(fā)材料。
我們提供各種材料來形成防反射膜,濾光片,透明導(dǎo)電膜,保護(hù)膜等。
該產(chǎn)品通過利用無機材料的粉末燒結(jié)技術(shù)來抑制氣相沉積過程中飛濺和廢氣的產(chǎn)生。
■材料形狀
顆粒型φ5-90mm等,顆粒型0.5-1.5mm,1-3mm,長型,其他特殊形狀(拱形)
顆粒 | 顆粒 | 顆粒(脫氣型) | 顆粒 (長型) | 拱 |
■氣相沉積法
電子束(EB),離子束,電阻加熱,激光燒蝕等。
沒有。 | 產(chǎn)品名稱(氧化物) | 沒有。 | 產(chǎn)品名稱(氧化物) |
1個 | Al2O3(氧化鋁-氧化鋁) | 13 | SnO2(氧化錫) |
2 | CeO2(氧化鈰) | 14 | Ta2O5(五氧化二鉭) |
3 | Cr2O3(氧化鉻) | 15 | Ti3O5(五氧化鈦) |
四個 | Fe2O3(氧化鐵) | 16 | TiO(一氧化鈦) |
五 | Ga2O3(氧化鎵) | 17 | TiO2(二氧化鈦-二氧化鈦) |
6 | HfO2(氧化ha-氧化f) | 18歲 | WO3(氧化鎢) |
7 | ITO(In2O3 + SnO2) | 19 | Y2O3(氧化釔-氧化釔) |
8 | MgO(氧化鎂-氧化鎂) | 20 | Yb2O3(氧化y) |
9 | Nb2O5(五氧化二鈮) | 二十一 | ZnO(氧化鋅) |
十 | NiO(氧化鎳) | 二十二 | ZrO2(氧化鋯-氧化鋯) |
11 | SiO(一氧化硅) | 二十三 | ZRT2(ZrO2 + TiO2) |
12 | SiO2(氧化硅) |
沒有。 | 產(chǎn)品名稱(氟化物) | 沒有。 | 產(chǎn)品名稱(氟化物) |
二十四 | AlF3(氟化鋁) | 31 | LiF(氟化鋰) |
二十五 | BaF2(氟化鋇) | 32 | MgF2(氟化鎂) |
26 | BaF2 + YF3(氟化鋇+氟化釔) | 33 | NaF(氟化鈉) |
27 | CaF2(氟化鈣) | 34 | NdF3(氟化釹) |
28 | CeF3(氟化鈰) | 35 | SmF3(氟化mar) |
29 | GdF3(氟化ga) | 36 | YbF3(氟化tter) |
30 | LaF3(氟化鑭) | 37 | YF3(氟化釔) |
沒有。 | 產(chǎn)品名稱(硫化物) | 沒有。 | 產(chǎn)品名稱(硫化物) |
38 | 硫化鋅 |
沒有。 | 產(chǎn)品名稱(氮化物) | 沒有。 | 產(chǎn)品名稱(氮化物) |
39 | AlN(氮化鋁) | 41 | TiN(氮化鈦) |
40 | Si3N4(氮化硅) |
1號 | 膜 /材料特性 | |
Al2O3(氧化鋁-氧化鋁) | ||
膜特性 [折射率] 1.63(約550 nm) [工作波長范圍] 0.2至8μm [蒸發(fā)方法] EB | 物性 [理論密度] 4.0g / cm 3 [熔點] 2046℃[沸點] 2980℃ [物質(zhì)]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):難溶 |
2號 | 膜 /材料特性 | |
CeO2(氧化鈰) | ||
膜特性 [折射率] 2.2(550 nm附近) [工作波長范圍] 0.4-16μm [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 物性 [理論密度] 7.3 g / cm 3 [熔點] 1950°C [沸點]- [性能]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿): 不溶于酸不溶于HCl,H 2溶于 SO 4和HNO 3 |
3號 | 膜 /材料特性 | |
Cr2O3(氧化鉻) | ||
薄膜特性 [折射率] 2.24-i0.07(約700 nm) [ 工作波長范圍] 1.2至10μm [蒸發(fā)方法] EB | 材料性能 [理論密度] 5.21 g / cm 3 [熔點] 2435°C [沸點] 4000°C [材料]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):不溶 |
4號 | 膜 /材料特性 | |
Fe2O3(氧化鐵) | ||
膜特性 [折射率] 3.0( 550nm 左右)[工作波長范圍]0.8?? [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 物性 [理論密度] 5.24 g / cm 3 [熔點] 1,565°C [沸點]- [性能]○水溶性:不溶○耐化學(xué)藥品性:可溶于鹽酸和硫酸 |
5號 | 膜 /材料特性 | |
Ga2O3(氧化鎵) | ||
膜特性 [折射率] 1.45(約550 nm) [波長范圍]- [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 材料性能 [理論密度] 5.95 g / cm 3 [熔點] 1900°C [沸點]- [性能]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):不溶 |
6號 | 膜 /材料特性 | |
HfO2(氧化ha-氧化f) | ||
膜特性 [折射率] 1.95(550 nm附近) [工作波長范圍] 0.23至12μm [蒸發(fā)方法] EB | 材料性能 [理論密度] 9.68 g / cm 3 [熔點] 2810°C [沸點] 5400°C [材料]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):不溶 |
7號 | 膜 /材料特性 | |
ITO(In2O3 + SnO2) | ||
膜特性 [折射率] 2.06-i0.016(近500 nm) [ 工作波長范圍] 0.4至1μm [蒸發(fā)方法] EB | 材料特性 [產(chǎn)品密度]- [熔點]-[沸點]-[ 材料 ] In2O3 = 可溶性(酸:無定形),不溶(水(酸:結(jié)晶)) 三角體系:850℃(揮發(fā)性) SnO2 =熔點:1630°C,沸點:180-1900°C(升華) 可溶性(KOH,NaOH),不溶(水,王水) |
8號 | 膜 /材料特性 | |
MgO(氧化鎂-氧化鎂) | ||
薄膜特性 [折射率] 1.74(約550 nm) [工作波長范圍] 0.23至9μm [蒸發(fā)方法] EB | 物性 [理論密度] 3.58 g / cm 3 [熔點] 2800°C [沸點] 3600°C [性能]○水溶性:-○耐化學(xué)性(酸,堿):可溶 |
9號 | 膜 /材料特性 | |
Nb2O5(五氧化二鈮) | ||
膜特性 [折射率] 2.33(約500 nm) [工作波長范圍] 0.32至8μm [蒸發(fā)方法] EB | 材料性能 [理論密度] 4.47 g / cm 3 [熔點] 1520°C [沸點]- [性能]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):氫fu酸,可溶于堿 |
10號 | 膜 /材料特性 | |
NiO(氧化鎳) | ||
膜特性 [折射率]- [波長范圍]- [蒸發(fā)方法] EB | 物性 [理論密度] 6.82 g / cm 3 [熔點] 1955°C [沸點]- [材料]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):溶于鹽酸 |
11號 | 膜 /材料特性 | |
SiO(一氧化硅) | ||
膜特性 [折射率] 1.9( 550nm 附近)[工作波長范圍] 0.55?8? [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 物性 [理論密度] 2.24 g / cm 3 [熔點] 1,700°C以下[沸點]- [性能]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性:可溶于鹽酸和硫酸 |
12號 | 膜 /材料特性 | |
SiO2(氧化硅) | ||
膜特性 [折射率] 1.46(近500 nm) [ 工作波長范圍] 0.16-8μm [蒸發(fā)方法] EB | 材料性能 [理論密度] 2.20 g / cm 3 [熔點] 1500°C [沸點] 2230°C [ 材料 ]○水溶性:不溶,不溶于酸,堿 |
13號 | 膜 /材料特性 | |
SnO2(氧化錫) | ||
膜特性 [折射率] 2.0(550 nm附近) [工作波長范圍] 0.4?1.5? [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 材料特性 [理論密度] 6.95 g / cm 3 [熔點] 1,565°C [沸點]- [性能]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性:可溶于鹽酸和硫酸 |
14號 | 膜 /材料特性 | |
Ta2O5(五氧化二鉭) | ||
膜特性 [折射率] 2.16(約550 nm) [工作波長范圍] 0.35至10μm [蒸發(fā)方法] EB | 材料性能 [理論密度] 8.73 g / cm 3 [熔點] 1468°C [沸點]- [材料]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):氫fu酸,可溶于堿 |
15號 | 膜 /材料特性 | |
Ti3O5(五氧化鈦) | ||
膜特性 [折射率] 2.3至2.55(約550 nm) [工作波長范圍] 0.35至12μm [蒸發(fā)方法] EB | 物性 [理論密度]- [熔點]-[沸點]- [性能]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):溶于稀硫酸/稀鹽酸 |
16號 | 膜 /材料特性 | |
TiO(一氧化鈦) | ||
膜特性 [折射率] 2.3至2.55(約550 nm) [工作波長范圍] 0.35至12μm [蒸發(fā)方法] EB | 材料性能 [理論密度] 4.93 g / cm 3 [熔點] 1750°C [沸點] 3000°C [材料]○水溶性:-○耐化學(xué)性(酸,堿):可溶于稀硫酸/稀鹽酸 |
17號 | 膜 /材料特性 | |
TiO2(二氧化鈦-二氧化鈦) | ||
膜特性 [折射率] 2.3至2.55(約550 nm) [工作波長范圍] 0.35至12μm [蒸發(fā)方法] EB | 材料性能 [理論密度] 4.26 g / cm 3 [熔點] 1850°C [沸點] 3000°C [性能]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):可溶于硫酸和堿 |
18號 | 膜 /材料特性 | |
WO3(氧化鎢) | ||
膜特性 [折射率] 2.2(550 nm附近) [工作波長范圍] 0.4μm? [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 物性 [理論密度] 7.15 g / cm 3 [熔點] 1473°C [沸點]- [性質(zhì)]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):溶于堿性水溶液 |
19號 | 膜 /材料特性 | |
Y2O3(氧化釔-氧化釔) | ||
膜特性 [折射率] 1.87(約550 nm) [ 工作波長范圍] 0.25至2μm [蒸發(fā)方法] EB | 物性 [理論密度] 5.03 g / cm 3 [熔點] 2410℃[沸點] 4300℃ [性能]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):溶于酸,不溶于堿 |
20號 | 膜 /材料特性 | |
Yb2O3(氧化y) | ||
膜特性 [折射率] 1.75( 550nm 附近)[工作波長范圍]0.28?? [蒸發(fā)方法] EB | 材料特性 [理論密度] 9.2 g / cm 3 [熔點] 1,127°C [沸點] 1,850°C [ 材料 ]○水溶性:不溶 |
21號 | 膜 /材料特性 | |
ZnO(氧化鋅) | ||
膜特性 [折射率] 2.1(550 nm附近) [工作波長范圍] 0.35至20μm [蒸發(fā)方法] EB | 物性 [理論密度] 5.47 g / cm 3 [熔點] 1975°C [沸點]- [性能]○水溶性:微溶性○耐化學(xué)性(酸,堿):可溶 |
22號 | 膜 /材料特性 | |
ZrO2(氧化鋯-氧化鋯) | ||
膜特性 [折射率] 2.05(約550 nm) [ 工作波長范圍] 0.3至8μm [蒸發(fā)方法] EB | 物性 [理論密度] 5.56g / cm 3 [熔點] 2677℃[沸點] 4548℃ [性質(zhì)]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):可溶于硫酸,氫fu酸 |
23號 | 膜 /材料特性 | |
ZRT2(ZrO2 + TiO2) | ||
膜特性 [折射率] 2.10(550 nm附近) [工作波長范圍] 0.3到7μm [蒸發(fā)方法] EB | 材料特性 [理論密度]- [熔點]-[沸點]-[ 材料 ]- |
24號 | 膜 /材料特性 | |
AlF3(氟化鋁) | ||
膜特性 [折射率] 1.38(約550 nm) [工作波長范圍] 0.22至12μm [蒸發(fā)方法]電阻加熱,EB | 材料特性 [理論密度] 2.88 g / cm 3 [熔點] 1040°C [沸點] 1260°C(升華) [ 材料 ]○水溶性:可溶 |
25號 | 膜 /材料特性 | |
BaF2(氟化鋇) | ||
膜特性 [折射率] 1.48(約 550nm )[工作波長范圍] 0.25?15E [蒸發(fā)方法]電阻加熱,EB | 材料特性 [理論密度] 4.87g / cm 3(20℃) [熔點] 1,287℃[沸點] 1,287℃[ 材料 ]○水溶性:0.16g / 100g 20℃ |
26號 | 膜 /材料特性 | |
BaF2 + YF3(氟化鋇+氟化釔) | ||
薄膜特性 [折射率]- [波長范圍]- [蒸發(fā)方法]電阻加熱,EB | 材料特性 [理論密度]- [熔點]-[沸點]- [性質(zhì)]- |
27號 | 膜 /材料特性 | |
CaF2(氟化鈣) | ||
膜特性 [折射率] 1.23至1.45(550 nm附近) [工作波長范圍] 0.15至12μm [蒸發(fā)方法]電阻加熱 | 材料特性 [理論密度] 3.18 g / cm 3 [熔點] 1418°C [沸點] 2500°C [材料]○水溶性:水18°C 0.0016g / 100g,微溶(稀無機酸),不溶:乙酸 |
28號 | 膜 /材料特性 | |
CeF3(氟化鈰) | ||
薄膜特性 [折射率] 1.63(約550 nm) [工作波長范圍] 0.3至12μm [蒸發(fā)方法]電阻加熱,電子束 | 材料性能 [理論密度] 5.8 g / cm 3 [熔點] 1324°C [沸點] 1360°C [材料]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):不溶于酸 |
29號 | 膜 /材料特性 | |
GdF3(氟化ga) | ||
膜特性 [折射率] 1.59(約550 nm) [工作波長范圍] 0.28μm? [蒸發(fā)方法]電阻加熱 | 材料特性 [理論密度]- [熔點] 1231℃[沸點] 2277℃ [ 材料 ]不溶(水) |
30號 | 膜 /材料特性 | |
LaF3(氟化鑭) | ||
薄膜特性 [折射率] 1.59(約550 nm) [工作波長范圍] 0.22至14μm [蒸發(fā)方法]電阻加熱,EB | 材料性能 [理論密度] 5.9 g / cm 3 [熔點] 1490°C [沸點] 2300°C [材料]○水溶性:不溶○耐化學(xué)性(酸,堿):不溶于酸 |
31號 | 膜 /材料特性 | |
LiF(氟化鋰) | ||
膜特性 [折射率] 1.3(約550 nm) [工作波長范圍] 0.11至8μm [蒸發(fā)方法]電阻加熱 | 物性 [理論密度] 2.64 g / cm 3 [熔點] 842°C [沸點] 1680°C [ 材料 ]○水溶性:微溶可溶性:氫fu酸 |
32號 | 膜 /材料特性 | |
MgF2(氟化鎂) | ||
膜特性 [折射率] 1.38至1.4(約550 nm) [工作波長范圍] 0.13至10μm [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 材料性能 [理論密度] 3.2 g / cm 3 [熔點] 1248°C [沸點] 2260°C [材料]○水溶性:微溶和可溶(NHO3) |
33號 | 膜 /材料特性 | |
NaF(氟化鈉) | ||
膜特性 [折射率] 1.34(約550 nm) [工作波長范圍] 0.13至15μm [蒸發(fā)方法]電阻加熱 | 材料特性 [理論密度] 2.78 g / cm 3 [熔點] 988°C [沸點] 1704°C [ 材料 ]可溶性(水,氫fu酸) |
34號 | 膜 /材料特性 | |
NdF3(氟化釹) | ||
膜特性 [折射率] 1.61(約550 nm) [工作波長范圍] 0.17至12μm [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 材料特性 [理論密度] 6.5 g / cm 3 [熔點] 1374°C [沸點] 2327°C [ 材料 ]- |
35號 | 膜 /材料特性 | |
SmF3(氟化mar) | ||
膜特性 [折射率]- [使用的波長范圍]- [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 材料性能 [理論密度] 6.5 g / cm 3 [熔點] 1306°C。[沸點] 2427°C。 [自然]可溶性(硫酸鹽),不溶(水) |
36號 | 膜 /材料特性 | |
YbF3(氟化tter) | ||
膜特性 [折射率] 1.5(550 nm附近) [工作波長范圍] 0.22-12μm [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 材料特性 [理論密度] 8.2g / cm 3 [熔點] 1157℃[沸點] 2230℃ [ 材料 ]- |
37號 | 膜 /材料特性 | |
YF3(氟化釔) | ||
膜特性 [折射率] 1.5(550 nm附近) [工作波長范圍] 0.2-14μm [蒸發(fā)方法] EB,電阻加熱 | 材料性能 [理論密度] 5.07 g / cm 3 [熔點] 1152°C [沸點] 2230°C [ 材料 ]不溶(水),分解(濃酸) |
38號 | 膜 /材料特性 | |
硫化鋅 | ||
膜特性 [折射率] 2.35(約550 nm) [工作波長范圍] 0.38?1.4? [蒸發(fā)方法]電阻加熱,EB | 物性 [理論密度] 4.06 g / cm 3 [熔點] 1,850℃[沸點]- [ 材料 ]○水溶性:不溶 |
39號 | 膜 /材料特性 | |
AlN(氮化鋁) | ||
膜特性 [折射率] 1.9-2.2(630 nm附近) [工作波長范圍]0.3??IR [蒸發(fā)方法] EB | 材料性能 [理論密度] 3.25 g / cm 3 [熔點] 3,000°C [沸點]- [ 材料 ]○水溶性:與水反應(yīng)(生成氨) |
40號 | 膜 /材料特性 | |
Si3N4(氮化硅) | ||
膜特性 [折射率] 1.72(約1,500?) [ 工作波長范圍]0.25-9? [蒸發(fā)方法] EB | 材料特性 [理論密度] 3.18 g / cm 3 [熔點]-[沸點]-[ 材料 ]○水溶性:不溶 |
41號 | 膜 /材料特性 | |
TiN(氮化鈦) | ||
膜特性 [折射率] 1.39-i2.84(650 nm附近) [ 工作波長范圍]- [蒸發(fā)方法] EB | 物性 [理論密度] 5.44 g / cm 3 [熔點] 2,980°C。[沸點]以上 [性質(zhì)]○可溶:不溶 |